Dans quelle mesure la pureté des gaz est-elle essentielle dans la fabrication de semi-conducteurs ?
Consensus général sur la fabrication de semi-conducteurs
Un consensus bien établi-prévaut dans la fabrication de semi-conducteurs : la limite supérieure des performances des puces est définie par la conception, tandis que la limite inférieure du rendement de production dépend de la pureté des matériaux.
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La liste complète des gaz derrière une seule puce
Du nettoyage des tranches au dépôt de-couches minces en passant par la gravure et le dopage, le processus de production d'une seule tranche de 12-pouces implique plus de 30 types de gaz de traitement, notamment le silane, l'ammoniac, le trifluorure d'azote, l'hexafluorure de tungstène, le chlorure d'hydrogène, etc. Chaque gaz doit être acheminé vers la chambre de réaction avec une pureté ultra-élevée.
Les traces d'impuretés au niveau du ppb (humidité, oxygène, particules) pénétrant dans les conduites de gaz peuvent déclencher des défauts de couche mince et une contamination interfaciale, réduisant directement le rendement de production. En prenant le processus 3 nm comme exemple, chaque puce individuelle vaut des centaines de dollars américains ; une simple fluctuation de 1 % du rendement suffit à effacer des bénéfices évalués à des dizaines de millions.
Pourquoi la « haute pureté » n’est-elle pas suffisante ?
Dans l'industrie des semi-conducteurs, "haute pureté" n'équivaut pas à "prêt pour le processus". Le véritable défi réside dans la rétention de la pureté -maintenant le gaz exempt de contamination-tout au long du trajet de livraison, depuis la source de gaz jusqu'au point d'utilisation (POU).
Trois garanties fondamentales fonctionnent en tandem pour y parvenir :
(1) Sélection des matériaux: Les corps de tubes et de vannes sont fabriqués en acier inoxydable 316L doublement refondu VIM+VAR pour minimiser le dégazage élémentaire des matériaux de base.
(2)Finition de surface: Rugosité de la surface interne Ra Inférieure ou égale à 0,25 μm (10 μin.) avec traitement d'électropolissage (EP) pour réduire l'adhésion des particules et l'adsorption de l'humidité.
(3) Intégrité du scellement hermétique: Taux de fuite d'hélium Inférieur ou égal à 1×10⁻⁹ atm·cc/sec pour bloquer entièrement la pénétration de contamination externe.
Solutions de distribution de gaz semi-conducteurs
La gamme de produits VIGOR VUPS Ultra-haute pureté couvre toute la chaîne de distribution de gaz conformément aux normes SEMI, y compris les raccords à joint métallique VCR-, les vannes à membrane de haute-pureté et les régulateurs de pression à deux -étages.
Tous les produits sont assemblés, testés et emballés sous vide dans un double -sac-dans des salles blanches de classe 100 avant expédition. Ce que les clients reçoivent, ce ne sont pas simplement des vannes individuelles, mais un système complet d'assurance de pureté ultra haute-plug and-play.
Les produits VIGOR fonctionnent de manière fiable dans les systèmes de distribution de gaz spéciaux et les conduites d'approvisionnement en gaz CVD/PVD dans de nombreuses usines de fabrication de plaquettes, compatibles avec les gaz de traitement critiques tels que le silane, le trifluorure d'azote et le trichlorure de bore.
La fabrication de semi-conducteurs est une course sans fin contre les contaminants - et la mission de VIGOUR est d'assurer la ligne de départ la plus propre possible pour cette course.
